發(fā)布時(shí)間：2018-06-25 22:06

  本文選題：磁控濺射 + Ti-N薄膜　； 參考：《表面技術(shù)》2017年06期

【摘要】：目的研究Ti-N薄膜顏色和硬度及其結(jié)合強(qiáng)度的影響因素。方法利用封閉磁場(chǎng)非平衡磁控濺射離子鍍膜技術(shù),該變?yōu)R射偏壓、氮?dú)饬髁康葏��?shù),分別在304不銹鋼基體和載玻片基體上沉積多彩Ti-N薄膜。用努氏硬度、劃痕法和球坑法分別評(píng)價(jià)Ti-N薄膜的顯微硬度和結(jié)合強(qiáng)度等性能。結(jié)果當(dāng)偏壓和濺射電流分別為-60 V和2 A時(shí),將反應(yīng)氣體氮?dú)饬髁繌?sccm逐漸增加到20sccm,Ti-N薄膜顏色依次發(fā)生從"淡黃-金黃-紅黃-紫紅-金黃"的循環(huán)變化趨勢(shì)。薄膜的硬度隨氮?dú)饬髁康脑黾釉?01~700HK之間呈逐步上升的趨勢(shì)。膜基結(jié)合普遍較好。當(dāng)?shù)獨(dú)饬髁亢蜑R射電流分別為10sccm和2 A時(shí),將負(fù)偏壓從-50 V逐漸增加到-120 V,薄膜顏色從淡黃色變成金黃色,膜基結(jié)合強(qiáng)度較好。硬度隨偏壓的增加變化不明顯。結(jié)論影響Ti-N薄膜顏色的主要因素為氮?dú)饬髁?偏壓也可以輕微地改變薄膜顏色,但對(duì)薄膜性能影響并不明顯。
[Abstract]:Objective to study the influence factors on the color, hardness and bonding strength of Ti-N thin films. Methods using the closed magnetic field unbalanced magnetron sputtering ion plating technique, the colorful Ti-N thin films were deposited on 304 stainless steel substrates and on glass substrates with the parameters of variable sputtering bias voltage and nitrogen flow rate, respectively. The microhardness and bonding strength of Ti-N films were evaluated by Knoop hardness scratch method and ball pit method respectively. Results when the bias voltage and sputtering current were -60 V and 2 A, the flow rate of reactive gas nitrogen gradually increased from 3sccm to 20SC cm ~ (-1) Ti-N film color, which occurred in turn from "light yellow, golden yellow, red yellow, purple red to golden yellow". The hardness of the film increases gradually with the increase of nitrogen flow rate in the range of 601 ~ 700HK. The membrane binding is generally good. When the nitrogen flow rate and sputtering current are 10sccm and 2 A, the negative bias voltage is gradually increased from -50 V to -120 V, and the film color changes from light yellow to golden color, and the bonding strength of the film is better. The hardness does not change obviously with the increase of bias voltage. Conclusion the main factor affecting the color of Ti-N thin film is nitrogen flow rate and bias voltage can change the color of the film slightly, but the effect on the film properties is not obvious.
【作者單位】： 寧波工程學(xué)院材料與化學(xué)工程學(xué)院;
【基金】：浙江省大學(xué)生科技創(chuàng)新活動(dòng)計(jì)劃(新苗人才計(jì)劃)項(xiàng)目(2014R422012)~~
【分類號(hào)】：TB383.2

【相似文獻(xiàn)】

相關(guān)期刊論文 前6條

1 陳楠;賈克輝;卜軼坤;;閉磁場(chǎng)非平衡磁控濺射在光學(xué)薄膜中的應(yīng)用[J];光機(jī)電信息;2007年09期

2 張以忱;巴德純;顏云輝;馬勝歌;;中頻非平衡磁控濺射制備Ti-N-C膜[J];東北大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2008年07期

3 齊雪蓮;任春生;張健;麻冰欣;馬騰才;;射頻對(duì)非平衡磁控濺射沉積Cu膜的影響[J];核聚變與等離子體物理;2007年03期

4 徐均琪,杭凌俠,惠迎雪;非平衡磁控濺射無(wú)氫DLC增透膜的研制[J];真空;2005年05期

5 嚴(yán)少平;蔣百靈;張永宏;陳迪春;李洪濤;;非平衡磁控濺射摻Cr類石墨鍍層的結(jié)構(gòu)分析[J];安徽理工大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版);2009年04期

6 ;[J];;年期

相關(guān)會(huì)議論文 前10條

1 楊林生;王君;陳長(zhǎng)琦;;工藝參數(shù)對(duì)非平衡磁控濺射沉積鉻膜的性能影響[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

2 張琦;尹龍;齊峰;冷永祥;黃楠;;非平衡磁控濺射制備氮化硅薄膜及其性能研究[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2006年學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2006年

3 孫海林;柯培玲;鮑明東;周丹華;;閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射離子鍍沉積參數(shù)對(duì)涂層性能的影響[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

4 高鵬;徐軍;王德和;鄧新綠;董闖;;雙放電腔微波ECR等離子體增強(qiáng)非平衡磁控濺射沉積氮化碳薄膜[A];2004年中國(guó)材料研討會(huì)論文摘要集[C];2004年

5 張以忱;吳宇峰;巴德純;;非平衡磁控濺射制備Ti-N-C薄膜性能研究(英文)[A];真空冶金與表面工程——第八屆真空冶金與表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文集[C];2007年

6 張以忱;吳宇峰;巴德純;;非平衡磁控濺射制備Ti-N-C薄膜性能研究[A];第八屆全國(guó)真空冶金與表面工程學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2007年

7 劉衡平;徐均琪;嚴(yán)一心;;非平衡磁控濺射制備Ti-DLC膜結(jié)構(gòu)與性能[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

8 鮑明東;徐雪波;于磊;孫海林;;非平衡磁控濺射偏壓對(duì)Cr_xN鍍層的性能影響[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2008年學(xué)術(shù)年會(huì)論文摘要集[C];2008年

9 杭凌俠;徐均琪;Y.YIN;惠迎雪;;采用非平衡磁控濺射技術(shù)制作DLC紅外增透膜[A];TFC'05全國(guó)薄膜技術(shù)學(xué)術(shù)研討會(huì)論文摘要集[C];2005年

10 惠迎雪;杭凌俠;徐均琪;;非平衡磁控濺射制備納米級(jí)DLC薄膜的力學(xué)性能研究[A];中國(guó)真空學(xué)會(huì)2006年學(xué)術(shù)會(huì)議論文摘要集[C];2006年

相關(guān)碩士學(xué)位論文 前2條

1 吳瓊宇;丁腈橡膠閉合場(chǎng)非平衡磁控濺射制備DLC膜及摩擦性能研究[D];哈爾濱工業(yè)大學(xué);2015年

2 吳宇峰;離子束輔助中頻非平衡磁控濺射制備Ti-N-C膜的研究[D];東北大學(xué);2006年

，

本文編號(hào)：2067693