發(fā)布時間：2018-01-09 14:22

  本文關鍵詞：應用高精度旋轉(zhuǎn)法的干涉儀檢測誤差校正　出處：《光學精密工程》2015年05期 　論文類型：期刊論文

  更多相關文章： 菲索干涉儀 旋轉(zhuǎn)平均法 旋轉(zhuǎn)非對稱項面形誤差 面形絕對檢測 澤尼克多項式

【摘要】：針對利用高精度菲索型干涉儀和旋轉(zhuǎn)平均法對光學元件進行面形絕對檢測時對旋轉(zhuǎn)精度的要求,提出了一種旋轉(zhuǎn)誤差校正模型來修正面形絕對檢測中的旋轉(zhuǎn)非對稱項誤差。首先基于經(jīng)典N步旋轉(zhuǎn)平均法理論,通過澤尼克多項式給出面形誤差的數(shù)學表達形式;然后根據(jù)旋轉(zhuǎn)角度所引起的誤差修正澤尼克系數(shù)進而修正旋轉(zhuǎn)非對稱項誤差;最后用數(shù)值仿真及實驗的方法驗證了校正模型的正確性。在旋轉(zhuǎn)角度誤差為0.1°條件下的仿真結(jié)果顯示:N步旋轉(zhuǎn)平均法所得面形誤差RMS值為真實面形的10.13%,校正后面形誤差RMS值為真實面形的6.79%;實驗結(jié)果顯示:N步旋轉(zhuǎn)平均法所得面形誤差RMS值為真實面形的10.28%,校正后面形誤差RMS值為真實面形的5.77%。這些結(jié)果證明所提出的校正模型準確可靠,提高了旋轉(zhuǎn)平均法的檢測精度。
[Abstract]:This paper aims at the requirement of rotation precision when using high-precision Fresso interferometer and rotating average method to detect the surface shape of optical elements. In this paper, a rotation error correction model is proposed to correct the error of rotation asymmetry in absolute frontal shape detection. Firstly, based on the classical N-step rotation averaging theory. The mathematical expression of the appearance error is given by Zehnik polynomial. Then, according to the error caused by rotation angle, the Zenick coefficient is corrected and then the rotation asymmetry term error is corrected. Finally, the correctness of the correction model is verified by numerical simulation and experiment. The simulation results show that the error of rotation angle is 0.1 擄. The RMS value of the surface shape error obtained by the N-step rotation averaging method is 10.13% of the true surface shape. The correction of the RMS value of the rear shape error is 6.79 of the true surface shape; The experimental results show that the RMS value of the surface error obtained by the rotation averaging method is 10.28% of that of the real surface. The results show that the proposed calibration model is accurate and reliable and improves the accuracy of the rotating average method.
【作者單位】： 中國科學院長春光學精密機械及物理研究所;中國科學院大學;中國人民解放軍防化研究院;
【基金】：國家自然科學基金資助項目(No.60902067) 吉林省重大科技攻關項目(No.112DGG001)
【分類號】：TH744.3
【正文快照】： 2.中國科學院大學,北京100039;3.中國人民解放軍防化研究院,北京102205)1引言在研制193nm光刻機過程中,對其投影物鏡的光學元件面形均方根RMS精度要求為1~2nm,對部分關鍵元件的要求更高。為達到上述加工精度,需確定光學元件面形,因此采用高精度檢測儀器實現(xiàn)面形絕對檢測具有重

【參考文獻】

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【共引文獻】

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【二級參考文獻】

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本文編號：1401757