葉面噴施硅對(duì)鎘脅迫番茄葉片PSⅡ電子傳遞的影響
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【部分圖文】:
圖1 外源Si對(duì)不同鎘濃度土壤栽培番茄葉片快速葉綠素?zé)晒庹T導(dǎo)動(dòng)力學(xué)曲線的影響
表1試驗(yàn)設(shè)置Table1Treatments土壤鎘處理Treatmentsofcadmium鎘含量(mg/kg)Cadmiumcontent噴施Si處理TreatmentsofsiliconSi濃度(mmol/L)Siliconcontent處理編號(hào)T....
圖2 外源Si對(duì)不同鎘含量土壤栽培番茄幼苗葉片相對(duì)可變熒光 ΔVt的影響
K點(diǎn)的出現(xiàn)和K相相對(duì)可變熒光(Vk)可以作為放氧復(fù)合體(OEC)遭受破壞和PSⅡ供體側(cè)的受損程度的標(biāo)記[21-22]。如圖2相對(duì)可變熒光ΔVt的分析結(jié)果可知,不同濃度的Cd栽培番茄葉片在0.3ms特征位點(diǎn)處出現(xiàn)K相,ΔK>0,此外ΔJ和ΔI均>0,這與高溫脅迫下番茄葉片響應(yīng)一樣....
圖3 外源Si對(duì)不同鎘濃度土壤栽培番茄葉片初始熒光和最大熒光的影響
圖2外源Si對(duì)不同鎘含量土壤栽培番茄幼苗葉片相對(duì)可變熒光ΔVt的影響由圖3可以看出,H處理,噴施不同濃度Si以后,葉片F(xiàn)o顯著低于未噴施的H處理,噴施高濃度Si和中等濃度Si以后,Fo顯著低于CK和HL處理,但相互無顯著差異。L處理,噴施不同濃度Si以后,葉片F(xiàn)o均顯著低于C....
圖4 外源Si對(duì)不同鎘濃度土壤栽培番茄幼苗葉片PSⅡ受體側(cè)參數(shù)的影響
由圖3可以看出,H處理,噴施不同濃度Si以后,葉片F(xiàn)o顯著低于未噴施的H處理,噴施高濃度Si和中等濃度Si以后,Fo顯著低于CK和HL處理,但相互無顯著差異。L處理,噴施不同濃度Si以后,葉片F(xiàn)o均顯著低于CK,除LL處理顯著低于L處理外,LH和LM處理與未噴施Si的L處理無顯著....
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