發(fā)布時間：2018-01-22 10:53

  本文關鍵詞： 氮氧化硅 等離子體增強化學氣相沉積 背面鈍化 晶硅太陽能電池　出處：《物理學報》2014年12期 　論文類型：期刊論文

【摘要】：研究了等離子體增強化學氣相沉積工藝條件對氮氧化硅膜的生長厚度及折射率的影響以及氮氧化硅/氮化硅疊層膜對p型硅片的鈍化效果.實驗結果表明,NH3的流量和N2O/SiH4流量比對氮氧化硅膜的影響較大,薄膜折射率能從1.48變化到2.1,厚度從30—60 nm不等.腔內壓力和射頻功率主要影響膜厚,壓力越大,功率越大,沉積速率加快,生成的膜越厚.溫度對膜厚和折射率的影響可以忽略.鈍化效果顯示,在有無NH3下,N2O/SiH4流量比分別為20和30時,退火后氮氧化硅/氮化硅疊層膜對p型硅的鈍化效果最好,其潛在電壓和少子壽命分別為652 mV,56.7μs和649 mV,50.8μs,均優(yōu)于參照組氮化硅膜樣品的鈍化效果.
[Abstract]:The effects of plasma enhanced chemical vapor deposition conditions on the growth thickness and refractive index of silicon oxide film and the passivation effect of silicon nitrogen oxide / silicon nitride laminated film on p type silicon wafer were studied. The flow rate of NH3 and the flow rate of N _ 2O / SiH _ 4 have great influence on the nitrous oxide film, and the refractive index of the film changes from 1.48 to 2.1. The thickness varies from 30 nm to 60 nm. The pressure in the cavity and RF power mainly affect the film thickness. The higher the pressure, the greater the power and the faster the deposition rate. The effect of temperature on film thickness and refractive index can be neglected. The passivation effect shows that the flow ratio of N _ 2O _ 2 / Si _ 4 is 20 and 30 respectively with or without NH3. After annealing, silicon oxide / silicon nitride laminated film has the best passivation effect on p-type silicon, its potential voltage and minority carrier lifetime are 652 MV / 56.7 渭 s and 649 MV / 50.8 渭 s, respectively. The passivation effect of silicon nitride film was better than that of the reference group.
【作者單位】： 湘潭大學材料與光電物理學院低維材料與應用技術教育部重點實驗室;中國科學院上海技術物理研究所紅外物理國家重點實驗室;南通大學江蘇省專用集成電路設計重點實驗室;
【基金】：國家重點基礎研究發(fā)展計劃(批準號:2011CB925604,2011CB922004) 中國博士后科學基金(批準號:20110490075)資助的課題~~
【分類號】：TM914.42
【正文快照】： 1引言晶體硅太陽能電池背面鈍化和背面反射增強是改善其性能的重要手段.當前,商業(yè)化的晶體硅太陽能電池廣泛采用n+/p/p+結構,其背場設計多采用鋁背場(Al-BSF).這種電池工藝簡單,成本低廉,但其效率普遍只有16.5%—17.5%.這是因為材料中少子擴散長度短,并且背面少數(shù)載流子的復合

【參考文獻】

相關期刊論文 前1條

1 何悅;竇亞楠;馬曉光;陳紹斌;褚君浩;;熱原子層沉積氧化鋁對硅的鈍化性能及熱穩(wěn)定性[J];物理學報;2012年24期

【共引文獻】

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1 安家才;廖華;梅鳳嬌;王建秋;李石周;;A1_2O_3薄膜的制備方法及其在太陽電池上的應用[J];云南師范大學學報(自然科學版);2013年02期

【相似文獻】

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1 秦捷,楊銀堂,傅俊興;SiON/SiN 太陽電池雙層減反膜的性能研究[J];太陽能學報;1997年03期

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本文編號：1454463