單靶濺射制備銅鋅錫硫(CZTS)薄膜及性能研究
【文章頁數(shù)】:67 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖1.1(a)黃銅礦結(jié)構(gòu)的CuInS2,(b)黃錫礦結(jié)構(gòu)的CZTS,(c)鋅黃錫礦結(jié)構(gòu)的CZTS
如圖1.1所示,CZTS四元化合物半導體的晶體結(jié)構(gòu)可以看做是由最初的閃鋅礦結(jié)構(gòu)的ZnS演變而來,當Ⅱ族元素Zn原子被Ⅰ族元素Cu原子和Ⅲ族元素In原子替代后會生成黃銅礦結(jié)構(gòu)的CuInS2,而當In原子又被Zn原子和Ⅳ族元素Sn原子以各占一半的形式替換,就會形成黃錫礦和鋅黃錫礦兩種....
圖1.2 CZTS薄膜太陽電池主要結(jié)構(gòu)
CZTS薄膜太陽電池與已經(jīng)實現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)的CIGS有著相似的器件結(jié)構(gòu)和適合作為太陽電池吸收層材料的性質(zhì)。如圖1.2所示,CZTS薄膜太陽電池的組成自上而下分別是Ni-Al柵狀電極(頂電極)、本征ZnO和摻Al的ZnO薄膜(窗口層)、CdS薄膜(緩沖層)、CZTS薄膜(吸收層)、M....
圖1.3(a)CZTS薄膜太陽電池工作原理示意圖(b)太陽電池等效電路圖
其中n是二極管的理想因子,k是玻爾茲曼常數(shù),T是開爾文溫度。1.4CZTS薄膜的主要制備及表征方法
圖2.1(a)真空磁控濺射的工作示意圖(b)高真空多腔室磁控濺射成膜系統(tǒng)
實驗采用磁控濺射制備Mo背電極、CZTS吸收層和ZnO及摻Al的ZnO窗口層,磁控濺射技術(shù)屬于物理氣相沉積,主要被用于制備金屬、半導體和絕緣體等薄膜材料,其具有設備操作簡單、鍍膜面積大和成膜均勻性較好等優(yōu)點。自20世紀70年代發(fā)展以來實現(xiàn)了材料制備的高速、低溫和低損傷。主要工作原....
本文編號:4051019
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