致密砂巖孔隙結(jié)構(gòu)對導電特性影響研究 ——以川西坳陷侏羅系上中統(tǒng)地層為例
【文章頁數(shù)】:77 頁
【學位級別】:碩士
【部分圖文】:
圖3-7孔隙度與排驅(qū)壓力交會圖
?致密砂巖孔隙結(jié)構(gòu)對導電特性影響研究一以川西坳陷侏羅系上中統(tǒng)地層為例0.02?0.03nm之間,平均值為0.055pm;排驅(qū)壓力相對I、II類更高。??(4)?IV類儲層??沙溪廟組IV類儲層樣品的孔隙度小于7%,滲透率為0.006xl(T3叫I2;中值孔喉半徑??為O.lOOj....
圖3-8孔隙度與中值壓力交會圖
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圖3一7孔隙度與排驅(qū)壓力交會圖
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圖3一8孔隙度與中值壓力交會圖
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本文編號:4032395
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