發(fā)布時(shí)間：2024-05-22 00:10

　　選用HEDP作為電解液對(duì)1060鋁材進(jìn)行了陽(yáng)極氧化,以膜重和耐蝕性作為評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)通過(guò)正交試驗(yàn)研究了主要工藝參數(shù)對(duì)膜層的影響;采用膜/基剝離及脆性斷裂的方法獲取了氧化膜層的斷面結(jié)構(gòu),利用FESEM、EDS、XRD和電化學(xué)實(shí)驗(yàn)等技術(shù)研究了HEDP陽(yáng)極氧化膜層的結(jié)構(gòu)、相組成及耐蝕性,討論了膜層的生長(zhǎng)過(guò)程;此外,以膜層耐蝕性為判斷標(biāo)準(zhǔn)通過(guò)正交試驗(yàn)探究了HEDP氧化膜的聚氨酯封閉工藝,并與其他封閉方法進(jìn)行對(duì)比,借助FESEM和極化曲線(xiàn)討論了聚氨酯封閉和沸水封閉對(duì)不同孔徑膜層的封閉效果,對(duì)比了不同封閉工藝對(duì)HEDP氧化膜和硫酸陽(yáng)極氧化膜的適應(yīng)性。研究表明,HEDP濃度、氧化電壓和電解液溫度的增加均會(huì)提高膜重和膜層耐蝕性,但超過(guò)一定范圍后,膜重和耐蝕性反而會(huì)下降;隨著氧化時(shí)間的延長(zhǎng),HEDP氧化膜的孔徑和孔隙率不斷增大,膜重和耐蝕性呈先上升后下降的趨勢(shì)。因此得到HEDP陽(yáng)極氧化的工藝條件為:HEDP濃度0.6 mol/L、氧化電壓90 V、電解液溫度50℃、氧化時(shí)間30 min。該工藝制備的陽(yáng)極氧化膜厚度為5μm左右,其中阻擋層厚度為330 nm,膜層在3.5%NaCl溶液中的自腐蝕電流密度為8.2×...

【文章頁(yè)數(shù)】：69 頁(yè)

【學(xué)位級(jí)別】：碩士

【部分圖文】：

圖1-1沸水封閉過(guò)程示意圖

圖1-1沸水封閉過(guò)程示意圖[20]Fig1-1Schematicdiagramofboilingwatersealingprocess目前沸水封閉工藝及機(jī)理方面在國(guó)內(nèi)研究較為深入，而且該封閉工藝操作難度較低，但是其最大的缺點(diǎn)是需要嚴(yán)格控制水的PH，這也導(dǎo)致其....

圖2-3膜層與基體分離裝置示意圖

觀(guān)察膜層的表面、截面組織與結(jié)構(gòu)。將試樣表面的氧化膜打磨掉一面，讓試樣一面為基體，一面為膜層，按如圖2-3所示連接試驗(yàn)裝置，電解液為NaCl（3.5wt.%），陽(yáng)極為試樣，陰極為不銹鋼板，電壓為15V。接通電源之后溶液中會(huì)出現(xiàn)白色絮狀物，所以需要添加水泵裝置，將其抽去。

圖3-1陽(yáng)極氧化工藝參數(shù)對(duì)膜層耐點(diǎn)滴時(shí)間的影響趨勢(shì)

生成的氧化膜太薄或者根本不能成膜，所以耐度過(guò)高時(shí)也會(huì)導(dǎo)致其對(duì)氧化膜的溶解能力加大，使膜層性表3-2正交試驗(yàn)?zāi)忘c(diǎn)滴時(shí)間結(jié)果分析Table3-2DripresistancetimeresultsoforthogonalexperimentalAB間k113.....

圖3-2陽(yáng)極氧化工藝參數(shù)對(duì)膜重的影響

2）由表3-3的結(jié)果可得出氧化膜耐點(diǎn)滴時(shí)間隨各因素變化的曲線(xiàn)，如圖3-2所示：圖3-2陽(yáng)極氧化工藝參數(shù)對(duì)膜重的影響Fig3-2Theeffectofanodicoxidationparametersonfilmweight從表3-3和圖3-2可見(jiàn)，....

本文編號(hào)：3980113